鍍膜在很多應用，包括光學，半導體，消費電子等等行業(yè)場景中，起著至關重要的作用。ZYGO的3D光學輪廓儀，提供的多種薄膜測量和分析技術，能得到膜層表面、膜層厚度和基底表面形貌測試結果，從而實現(xiàn)對制備膜層工藝的精確控制。

ZYGO 白光輪廓儀基于不同技術，提供兩種可選方式，分別用于測試厚度50-2000nm以及1-150um的透明膜層的：

膜層上表面形貌膜層厚度分布基底形貌

Standard Film Analysis (LSQ) 作為Newview 9000,及 Nexview NX2 輪廓儀的可選功能，用于測試和分析1-150um厚度范圍的透明膜層。

當透明光學薄膜存在時，會在掃描時對應不同的折射率變化界面，產(chǎn)生多組干涉信號，MX軟件分析和分離各個信號，分別得到膜層表面，厚度和基底的信息。

使用Standard Film Analysis (LSQ)，為了得到精確結果，需要輸入膜層折射率n值。

Advanced Model Based Analysis (MBA)， Nexview NX2 輪廓儀獨有的可選功能，用于測試和分析50-2000nm厚度透明膜層。

更薄的膜層，其各個分界面的干涉信號，在掃描過程中會更緊密地混合在一起，很難分辨，如上圖左。 MBA 模式是ZYGO一項專利技術，依據(jù)輸入的膜層和基底的光學參數(shù)，以及被測膜層厚度的范圍，可以建立一個膜層堆疊的模型；通過比對模型和實際測試信號，擬合出最佳的結果。

MBA可通過過預設輸入Phase Change On Reflection - PCOR?(光在不同材料折射率界面反射時的相位跳變)，使模型更準確地匹配實際情況，從而擬合出更精確的結果。

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鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜，目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑制耀光、鬼影。鍍膜膜厚單位一般使用微米(μm) 單位，其厚度非常小，傳統(tǒng)方法根本無法精準測量,而在實際應用環(huán)節(jié)中鍍膜的厚度又對產(chǎn)品質(zhì)量有著極其重要的影響。因此，請大家來通過這篇文章來了解一下精質(zhì)視覺的“光學干涉測厚儀”。

【產(chǎn)品簡介】

精質(zhì)視覺的光學干涉測厚儀是利用光學干涉法，發(fā)射一束白光至薄膜表面，通過檢測反射光的干涉條紋，即可測量出薄膜的厚度。其可應用在以下場所：

測量光學鍍膜、手機觸摸屏ITO等鍍膜厚度、PET柔性涂布的膠厚等厚度、LED鍍膜厚度，建筑玻璃鍍膜厚度及其它需要測量的鍍膜涂層厚度的場合。

【產(chǎn)品類別】

精質(zhì)視覺的光學干涉測厚儀分為以下兩種：

薄膜：在一維方向上的尺度遠小于其他二維尺度的物質(zhì)形態(tài)。 光學上的薄膜是指能夠實現(xiàn)干涉的薄膜；電子學上的薄膜厚度不大于1μm。

光學薄膜：引入了干涉和吸收等光學概念，并發(fā)揮這些作用的薄膜。

紅外波段：0.7~100μm 可見波段：400nm ~ 700nm

維恩位移：輻射峰值波長隨輻射源溫度降低，而長移。其中，峰值波長λ = b/T

紅外光學薄膜：工作在紅外區(qū)域（0.7 ~ 25μm）的光學薄膜。 特點：①膜層厚、比較軟、耐環(huán)境能力差。 ②結合力較弱。離子輔助轟擊效果不顯著，轟擊往往增加吸收。 ③紅外光學系統(tǒng)沒有光學薄膜就無法工作。 近紅外：0.7~1.1μm 短波紅外：1 ~ 3 μm 中紅外：3 ~ 5 μm 長波紅外：5μm以上

薄膜在現(xiàn)代（光）信息技術中發(fā)揮作用：光譜的限制與獲得，能量的傳遞，量子態(tài)的識別與控制。

重要制備技術：熱蒸發(fā) 真空中的熱蒸發(fā)有兩種：電阻加熱和電子槍加熱。 當凝結幾率明顯大于解吸幾率的時候，薄膜開始生長。

地球同步衛(wèi)星高度 ： 36000km 太陽同步衛(wèi)星 600~ 1500km 低傾角軌道 350km 傾角 35°